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因为专业,所以优秀 半导体高端湿制程设备工艺方案供应商
同一个目标携手共进,同一个梦想合作共赢! 加强我们合作,共享发展新机遇!
专注、专业、专心为您服务 集成IC,MOS功率器件,MEMS, SOI, GaAs, GPP,SIC,CaN,半导体陶瓷基片,半导体玻璃基片的湿制程设备系列
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槽体材料
C-PVC或NPP,槽体可加盖(透明PVC)
注入时间
≤45s(D1 水压力为 2-3kg)
排放时间
≤5s
工艺过程
DI SUPPLY,SHOWER ON,drain,cycle time 的次数和时间可以单独设定
DI 工艺要求 MAX
20L/MIN,流量可调节
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QQ客服 1923740589
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